Какой физиологический процесс работодатели требуют у претендентов, претендующих на работу на фабрике по созданию

Вероника_9919

51

Физиологический процесс, который работодатели требуют у претендентов, претендующих на работу на фабрике по созданию элементов компьютерных микросхем и который оказывает влияние на процессы формирования слоев и рисунков проекта, называется литография.

Литография - это процесс создания микроэлектронных устройств на поверхности кремниевых пластин, из которых они формируются. Она является ключевым процессом в производстве компьютерных микросхем и позволяет создавать мельчайшие структуры и проводники на поверхностях микросхем.

Шаги в процессе литографии следующие:

1. Подготовка кремниевой пластины: Пластина очищается и покрывается специальным слоем фоторезиста, который станет основой для формирования слоев и рисунков проекта.

2. Настройка экспонирования: Специальными приборами проводится настройка лазера или другого источника света, который будет использоваться для экспонирования пластины. Это необходимо для точного передачи рисунков проекта на фоторезист.

3. Маскы и экспонирование: Создается специальная маска, которая содержит рисунок или слои проекта. Маска размещается над пластиной, а затем производится экспонирование. Свет, проходящий через маску, размывается и передается на фоторезист, создавая формы и рисунки.

4. Разработка: Пластина проходит процедуру разработки, во время которой лишний фоторезист удаляется, а только нужная форма остается на пластине. Это позволяет обозначить слои и рисунки проекта.

5. Этапы повторяются: Процесс литографии может включать несколько повторяющихся шагов для создания сложных многослойных структур. Каждый раз для каждого нового слоя создается новая маска и производится экспонирование, а затем разработка.

Таким образом, литография является физиологическим процессом, требуемым у претендентов на работу на фабрике по производству компьютерных микросхем. Он влияет на процессы формирования слоев и рисунков проекта благодаря использованию фоторезиста, масок и экспонирования для создания точных и сложных структур на поверхности микросхем.